行業(yè)動(dòng)態(tài)

目前我國(guó)的試劑類規(guī)格基本上按純度(雜質(zhì)含量的多少)劃分，共有高純、光譜純、基準(zhǔn)、分光純、優(yōu)級(jí)純、分析和化學(xué)純等7種。國(guó)家和主管部門頒布質(zhì)量指標(biāo)的主要優(yōu)級(jí)純、分級(jí)純和化學(xué)純3種。

國(guó)外試劑純度級(jí)別

1. 優(yōu)級(jí)純(GR：Guaranteed reagent)

又稱一級(jí)品或保證試劑，99.8%，這種試劑純度最高，雜質(zhì)含量最低，適合于重要精密的分析工作和科學(xué)研究工作，使用綠色瓶簽。

2. 分析純(AR)

又稱二級(jí)試劑，純度很高，99.7%，略次于優(yōu)級(jí)純，適合于重要分析及一般研究工作，使用紅色瓶簽。

3. 化學(xué)純(CP)

又稱三級(jí)試劑，≥ 99.5%，純度與分析純相差較大，適用于工礦、學(xué)校一般分析工作。使用藍(lán)色(深藍(lán)色)標(biāo)簽。

4. 實(shí)驗(yàn)試劑(LR：Laboratory reagent)

又稱四級(jí)試劑。

純度遠(yuǎn)高于優(yōu)級(jí)純的試劑叫做高純?cè)噭?/span>(≥ 99.99%)。高純?cè)噭┦窃谕ㄓ迷噭┗A(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，它是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度最高的試劑。它的雜質(zhì)含量要比優(yōu)級(jí)試劑低2個(gè)、3個(gè)、4個(gè)或更多個(gè)數(shù)量級(jí)。因此，高純?cè)噭┨貏e適用于一些痕量分析，而通常的優(yōu)級(jí)純?cè)噭┚瓦_(dá)不到這種精密分析的要求。

目前，除對(duì)少數(shù)產(chǎn)品制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)外(如高純硼酸、高純的冰乙酸、高純氫氟酸等)，大部分高純?cè)噭┑馁|(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)還很不統(tǒng)一，在名稱上有高純、特純Extra Pure)、超純、光譜純等不同叫法。

除了上述四個(gè)級(jí)別外，目前市場(chǎng)上尚有： 

基準(zhǔn)試劑(PT：Primary Reagent)：

專門作為基準(zhǔn)物用，可直接配制標(biāo)準(zhǔn)溶液。

光譜純?cè)噭?/span>(SP：Spectrum pure)：

表示光譜純凈。但由于有機(jī)物在光譜上顯示不出，所以有時(shí)主成分達(dá)不到99.9%以上，使用時(shí)必須注意，特別是作基準(zhǔn)物時(shí)，必須進(jìn)行標(biāo)定。

根據(jù)高純?cè)噭┕I(yè)專用范圍的不同，可將其分為以下幾種： 

1.光學(xué)與電子學(xué)專用高純化學(xué)品

即電子級(jí)試劑(EIectronicgrade)試劑。

2.金屬-氧化物-半導(dǎo)體(Metal-Oxide-Semiconductor)電子工業(yè)專用高純化學(xué)品

即UP-S級(jí)或MOS試劑(讀作：摩斯試劑)。一般用于半導(dǎo)體，電子管等方面，其雜質(zhì)最高含量為0.01-10ppm，有的可降低到ppb數(shù)量級(jí)，金屬雜質(zhì)含量小于1ppb，塵埃等級(jí)達(dá)到0-2ppb，適合0.35—0.8微米集成電路加工工藝。

3.單晶生產(chǎn)用高純化學(xué)品。

4.光導(dǎo)纖維用高純化學(xué)品。

此外，還有儀分試劑、特純?cè)噭?/span>(雜質(zhì)含量低于1/1000000～1/1000000000級(jí))、特殊高純度的有機(jī)材料等。

5.等離子體質(zhì)譜純級(jí)試劑(ICP-Mass Pure Grade)

絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于0.1ppb，適合等離子體質(zhì)譜儀(ICP Mass)日常分析工作。

6.等離子體發(fā)射光譜純級(jí)試劑(ICP Pure Grade)

絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于1ppb ，適合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)日常分析工作。

7.原子吸收光譜純級(jí)試劑(AA Pure Grade)

絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于10 ppb ，適合原子吸收光譜儀(AA)日常分析工作。